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光伏

曝光机LTS2233

曝光机LTS2233

产品特点:

• 直写光刻技术作为一种无掩膜光刻技术,只需通过控制光的强度和扫描刻写路径就可以实现任意图形的高精度刻写,较其他刻写方式而言更为简单,成本也更为低廉,因此可以实现高精度、高灵活度、低成本的生产。

• 随着直写光刻技术水平的提升,其生产效率也得到了大幅提升,目前直接成像设备及直写光刻设备在PCB制造、晶圆级封装以及FPD显示面板制造等领域已得到了不断应用。

• 采用先进的DLP技术、紫外激光技术、FPGA技术、高精密运动平台技术等技术融合,打造出无菲林,无掩模版激光直写曝光机

设备用途

丝网印刷模板制造。



应用领域

纺织、印花、汽车玻璃、包装、电路板、标签、 装饰面板、陶瓷基板、厚膜电路。

技术参数

型号LTS1011LTS1213LTS2233
加网线数133LPI
聚焦方式动态即时聚焦
激光类型UV laser波长405+5nm
激光能量20w/25W/30W(可选)
成像系统技术DMD DLP Technolegy
最大样品尺寸(mm)1150x13001200x13002200x3300
最小样品尺寸(mm)300x300300x300700x700
最大曝光面积(mm)1100x11001100x11002000x3100
样品厚度(可定制)25-45mm25-45mm20-50mm
感光胶厚度溶剂型感光胶 3um-160um,水性感光胶 3um-240um

曝光时间

膜厚12-15um曝光时间160-200S/㎡,膜厚20-25um曝光时间200-240S/㎡ SBQ型感光乳剂
解析力1270dpi/ 2540dpi(可选),12700dpi(For PCB)
动力电、气压单项 220v,50/60HZ,4KW(LTS1010),5K(LTS1213),气1L/min
外形尺寸(mm)2750x1900x16002896x1903x15173850x2550x1550
重量2200KG2600KG3500KG
工作环境黄光室;无尘等级:10000;温度22+2℃℃,40-60%相对湿度(不结露)
文件格式Gerber274x、1 bit tiff 等.


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