曝光机LTS1213
产品特点:
• 直写光刻技术作为一种无掩膜光刻技术,只需通过控制光的强度和扫描刻写路径就可以实现任意图形的高精度刻写,较其他刻写方式而言更为简单,成本也更为低廉,因此可以实现高精度、高灵活度、低成本的生产。
• 随着直写光刻技术水平的提升,其生产效率也得到了大幅提升,目前直接成像设备及直写光刻设备在PCB制造、晶圆级封装以及FPD显示面板制造等领域已得到了不断应用。
• 采用先进的DLP技术、紫外激光技术、FPGA技术、高精密运动平台技术等技术融合,打造出无菲林,无掩模版激光直写曝光机。









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